リソグラフィー装置
ソリューション
2025年7月より、リソテックジャパン株式会社製 レジスト塗布／現像装置の国内代理店として取り扱いを開始しました。
同装置は半導体リソグラフィー工程に特化した多彩な機能を備え、微細加工に必要な高精度なプロセス制御と柔軟な装置構成が可能です。
また、マニュアル装置から自動装置まで幅広いラインナップを提供しています。
半導体分野への装置導入において、横河ソリューションサービス株式会社の幅広いニーズに対応できる技術力と柔軟な対応力を活かし、
ニーズに合わせたソリューション提案と導入サポートを行います。
製品一覧
自動装置LITHOTRAC シリーズ
LITHOTRAC（リソトラック）シリーズは、研究開発用途から生産用途まで、半導体製造プロセスの幅広い分野に対応できる、自由度の高い設計のレジスト塗布・現像・ベーク装置です。
マニュアル装置Litho Spin Cup
シリーズ
Litho Spin Cup（リソスピンカップ）シリーズは、自動塗布・現像処理装置並みの高い性能を発揮します。オートディスペンサー、裏面洗浄などのリンス機能や自動センタリング機構を標準搭載しています。
マニュアル装置APPS シリーズ
APPSシリーズは、シリコンウェハや基板の表面に気化させたHMDS（ヘキサメチルジシラザン）を流し、高温で反応させることで、現像時のレジスト剥がれを抑えることができます。
マニュアル装置LWB シリーズ
LWBシリーズは、LITHOTRACシリーズに搭載されている高精度なベーク／クーリングプレートと同等の性能を持つウェハベーク／クーリング装置です。
製品詳細
LITHOTRAC Dual-1000
特長
- レジスト塗布と現像の機能を一体化した装置
- ベークプレート、クーリングプレート、HMDS処理ユニットなどを自由に組み合わせ可能
- 多様な塗布材料や現像方式に対応し、2インチから300mmまでの基板を柔軟に処理可能
適応塗布材料
g線／i線レジスト、ポリイミド、各種化学増幅型レジスト（EBL、EUV、ArF／KrFなど）
LITHOTRAC CB-50
特長
- 多様な塗布材に対応し最適なスピン塗布を実現
- 半導体分野で研究から量産まで幅広く採用される自動塗布ベーク装置
適応塗布材料
g線／i線レジスト、ポリイミド、各種化学増幅型レジスト（EBL、EUV、ArF／KrFなど）
LITHOTRAC DB-50
特長
- PEBから現像、リンス、ハードベークまで連続処理が可能
- 多様な現像方式や基板形状に対応し、安全性と使いやすさを重視
- 各種現像方式や基板形状に合わせた装置設計変更が可能
Litho Spin Cup 800Cシリーズ
特長
- 多種多様な塗布薬液や基板サイズに対応可能なマニュアルスピン塗布装置
- 要求される塗布条件を満たすための多彩な機能
- 柔軟な仕様対応により研究開発から少量生産まで幅広く利用可能
Litho Spin Cup 800Dシリーズ
特長
- アルカリ現像や有機現像の用途に応じたマニュアル現像装置
- 各種ノズルや安全仕様を備え、研究開発から少量生産まで柔軟に対応可能
- 防爆型安全仕様や消火システム／排気ダンパーにも対応可能
APPS-30
特長
- ウェハ表面に気化HMDS を流し疎水化し、現像時のレジスト剥がれを抑制
- ベーク温度調整可能（60℃から150℃）
- 付属ガイドアームによる高い操作性および安全性
LWB-03P
特長
- 熱処理後にクーリングプレートに受け渡しオーバーベークを防止
- 安全な操作を実現、PEB（現像前ベーク）の熱履歴管理にも有効
- ウェハ自動搬送機能を搭載
LWB-03
特長
- 高性能200℃ベークプレート搭載の熱処理装置
- 面内温度均一性に優れたウェハ加熱が可能
- 各種基板サイズに対応可能
- 最大400℃対応ベークプレート搭載モデルにも対応
横河ソリューションサービス株式会社のプレゼンス
当社では、製品販売だけでなく、ソリューション提案と導入サポートまで一貫して対応しております。
リソテックジャパン株式会社の装置販売においても、同様に対応いたします。自社グループの半導体工場で培った知識と試作環境を活用し、各種工程に精通したエンジニアが導入支援を担当します。お客様の現場に即したスムーズな製品導入やソリューションの立ち上げのサポートにつきましてもお任せください。